真空槽(スパッタ室) |
- 円筒型、SUS304、内寸ф350 x H270
- 上蓋上昇旋回式 (エアーハイドロ駆動)
- 到達圧力 : 1x 10-4 Pa以下
- シャター付覗窓
- ベーキングヒータ(オプション)
- スパッタダウン式 (スパッタアップへの変更可)
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カソード |
- 2インチ マグネトロンカソード 4基
- 磁性体ターゲット用カソード(オプション)
- 個別シャッターのリモート駆動(オプション:タイマー駆動可能)
- RFxRF または RFxDC(オプション)同時放電可能
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基板ホルダー |
- ф280回転基板ホルダー
- 3〜30rpm連続回転 又は 90ºステップ送り
- 水冷(オプション:300ºC加熱)
- 逆スパッタ可能(RF300W ) (オプション)
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排気系 |
- 300 L/sec TMP + RP (オプション:ドライポンプに変更可)
- バタフライバルブによるコンダクタンス調整 (手動)
- 排気操作と乾燥ガスリークの自動操作
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ガス系 |
- マスフローコントローラ 2系列(オプション:ガス系列追加可能)
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真空計 |
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スパッタ電源 |
- RF300W x 2台(オプション:DC電源の追加可能)
- 2台ともオートマッチング
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ユーティリティ |
- 設置スペース : 約 W2000 x D1000 x H1500
- 冷却水 : 3 L/min、0.1〜0.15 MPa
- 電源容量 : 3ф 200V 5kVA
- スパッタ用ガス、リーク用乾燥ガス
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オプション |
- 搬送室
- ロード/アンロード室
- その他上記各項目を参照下さい。
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